国家知识产权局信息显示,武汉凌久微电子有限公司申请一项名为“一种用于硬件设计分析的多模态知识图谱生成方法及系统”的专利,公开号CN121390254A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本发明提供了一种用于硬件设计分析的多模态知识图谱生成方法及系统,打破设计、验证和物理,实现这三大传统EDA领域之间的信息壁垒,将来自不同数据域的信息进行语义级的融合和关联,创建一个统一且可查询的硬件设计知识表示,形成一个连贯的、可操作的统一知识模型。通过将仿真的结果(动态数据)和物理实现的特征(性能数据)集成到静态的结构模型中,创造了一个多模态设计知识图谱,为在一个统一的框架内,分析一个具备结构、行为和性能特征的综合性设计模型,工程师不再需要在不同的工具和数据格式之间手动切换,而是可以通过单一的查询接口,访问关于设计的静态结构、动态行为和物理性能的全方位信息。
天眼查资料显示,武汉凌久微电子有限公司,成立于2021年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本16544.959958万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉凌久微电子有限公司参与招投标项目150次,财产线索方面有商标信息6条,专利信息177条,此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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