国家知识产权局信息显示，上海积塔半导体有限公司取得一项名为“离子注入结构的位置确定方法、装置、设备及介质”的专利，授权公告号CN119314904B，申请日期为2024年9月。

天眼查资料显示，上海积塔半导体有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1790638.7534万人民币。通过天眼查大数据分析，上海积塔半导体有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目1949次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息1327条，此外企业还拥有行政许可200个。

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作者：情报员