国家知识产权局信息显示，江苏福拉特半导体设备有限公司申请一项名为“一种单片式砷化镓衬底的高效腐蚀方法”的专利，公开号CN121398478A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明公开了一种单片式砷化镓衬底的高效腐蚀方法，将砷化镓衬底晶圆置于腐蚀液中并在浸泡过程中持续运动，以抑制气泡附着；将经浸泡的晶圆绕其轴心旋转，同时向晶圆表面持续供给NH₄OH与H₂O₂混合药液，借助旋转产生的离心力与药液冲刷力实时去除腐蚀副产物；在旋转腐蚀过程中连续获取晶圆表面图像，通过图像处理算法识别砷化镓残留区域，并在判定该区域面积达到预设终点条件时立即终止药液供给；依次以超纯水冲洗、以超纯水与氮气混合的二流体冲洗、再次以超纯水冲洗，以去除表面残留药液及副产物；通过阶梯提高晶圆旋转速度并协同氮气吹扫，去除晶圆表面液体，完成干燥。

天眼查资料显示，江苏福拉特半导体设备有限公司，成立于2019年，位于南京市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1184.2106万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏福拉特半导体设备有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目32次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息59条，此外企业还拥有行政许可9个。

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作者：情报员