国家知识产权局信息显示,三菱化学高新材料有限公司申请一项名为“用于化学机械抛光的挡圈”的专利,公开号CN121398933A,申请日期为2024年5月。
专利摘要显示,一种用于化学机械处理的挡圈,包括由基体材料和填料制成的导热材料。所述填料按重量计占挡圈材料的10%至70%。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
国家知识产权局信息显示,三菱化学高新材料有限公司申请一项名为“用于化学机械抛光的挡圈”的专利,公开号CN121398933A,申请日期为2024年5月。
专利摘要显示,一种用于化学机械处理的挡圈,包括由基体材料和填料制成的导热材料。所述填料按重量计占挡圈材料的10%至70%。
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