国家知识产权局信息显示，有研工程技术研究院有限公司申请一项名为“一种无需激活吸氢片的制备方法”的专利，公开号CN121372373A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本发明公开了一种无需激活吸氢片的制备方法，包括以下步骤：(1)清洗：对钛箔基体进行清洗，去除表面脏污和氧化物；(2)镀膜前处理：将清洗后吹干的钛箔迅速转移至磁控溅射镀膜机腔体，抽真空到真空度优于4×10-3Pa防止污染和氧化；(3)镀膜：在真空腔体内，先通入氩气，通过等离子体轰击清洗钛箔表面，再关闭氩气，控制腔体内为氢气体积浓度0.05％～5％、氮气体积浓度0.05％～10％的气氛，通过磁控溅射在钛箔表面沉积TiVNbMoCr高熵合金层；(4)镀膜后处理：沉积完成后抽真空到真空度优于3×10-3Pa，充入纯氩气氛至大气压，再取出钛箔。本方法通过控制镀膜氛围，氢气在钛箔表面吸附离解后与高熵合金层元素原位形成金属氢化物，且界面可深度融合，所得的吸氢片吸氢性能好，无需再对吸氢片进行高温激活处理，可以直接用于实际应用场景中。

天眼查资料显示，有研工程技术研究院有限公司，成立于2018年，位于北京市，是一家以从事金属制品业为主的企业。企业注册资本37873.06万人民币。通过天眼查大数据分析，有研工程技术研究院有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目200次，专利信息1520条，此外企业还拥有行政许可59个。

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作者：情报员