国家知识产权局信息显示，埃地沃兹日本有限公司申请一项名为“真空排气系统及真空泵”的专利，公开号CN121399377A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，一种真空排气系统（10），用于从多个腔室（10－1～10－n）将工艺气体排气，真空排气系统（10）具备：多个涡轮分子泵（100－1～100－n）；集合管（14），将多个涡轮分子泵的排气口并联地连接；1台以上的干式泵（16），与该集合管（14）连接；以及腔室导入阀装置（30－1～30－n），控制导入到多个腔室（10－1～10－n）的气体的流量；基于多个涡轮分子泵（100－1～100－n）的能够排气的流量，设定工艺气体的排气流量阈值（T）；借助腔室导入阀装置（30－1～30－n），对气体的导入时机及流量中的至少一方进行控制，以使其不超过该排气流量阈值（T）。

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作者：情报员