国家知识产权局信息显示,上海新傲科技股份有限公司申请一项名为“SOI结构及其形成方法”的专利,公开号CN121419613A,申请日期为2025年9月。
专利摘要显示,本发明涉及一种SOI结构及其形成方法。所述SOI结构的形成方法包括如下步骤:形成两片边缘具有梯形倒角的晶圆;于至少一片所述晶圆的表面形成氧化层;键合两片所述晶圆,形成包括两片所述晶圆以及夹设于两片所述晶圆之间的所述氧化层的SOI结构。本发明减少甚至是消除了传统SOI结构边缘的不可用区域,而且增强了晶圆之间的键合强度,并避免了对所述SOI结构以及半导体器件制造良率的影响。
天眼查资料显示,上海新傲科技股份有限公司,成立于2001年,位于上海市,是一家以从事化学纤维制造业为主的企业。企业注册资本31500万人民币。通过天眼查大数据分析,上海新傲科技股份有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目92次,财产线索方面有商标信息3条,专利信息255条,此外企业还拥有行政许可158个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
热门跟贴