国家知识产权局信息显示,武汉山拓微电子有限公司申请一项名为“一种散热基板及其制备方法、半导体功率模块”的专利,公开号CN121419625A,申请日期为2025年10月。

专利摘要显示,本发明公开了一种散热基板及其制备方法、半导体功率模块,其中,散热基板包括:导电层;绝缘层,绝缘层位于导电层的一侧;散热底板,散热底板位于绝缘层远离导电层的一侧;第一类金刚石层或第一金刚石层,第一类金刚石层或第一金刚石层位于散热底板远离绝缘层的一侧,且第一类金刚石层或第一金刚石层还位于散热底板的所有侧面;第一类金刚石层或第一金刚石层包绕散热底板。本发明可以有效提高散热基板的散热速度和散热效果。

天眼查资料显示,武汉拓微电子有限公司,成立于2022年,位于武汉市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本56000万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉山拓微电子有限公司专利信息30条。

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作者:情报员