国家知识产权局信息显示，科磊股份有限公司申请一项名为“用以在EUV光刻中校准、预测及控制随机缺陷的方法”的专利，公开号CN121420243A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，基于在工件的布局内随机缺陷的初始发生概率，选择所述工件上所述初始概率高于阈值的位置的子集。按照图案形状对位置的所述子集进行分组。针对所述图案形状中的每一者确定预期缺陷计数。接着，选择所述图案形状的子集进行修复。

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作者：情报员