国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“显示模组及显示装置”的专利，公开号CN121419437A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本申请公开了一种显示模组及显示装置，反射层设置有间隔设置的第一镂空口和第二镂空口，在显示面板的法向视角下，一发光器件对应设置在一第一镂空口内，第二镂空口设置在相邻两个像素单元之间。在显示面板的法向视角下，第二遮光层至多延伸至第一镂空口的边界，第二遮光层至少延伸覆盖第二镂空口的边界，第一遮光层遮挡第二镂空口和第三开口。本申请实施例通过设置第二遮光层至多延伸至第一镂空口的边界，降低发光器件光损的风险，以满足高亮显示的需求；通过在像素单元之间开设第二镂空口，以减少反射层的面积，同时搭配第二镂空口的下方设置有第一遮光层，以降低显示面板的反射率，满足面板表面低反射率的需求。

天眼查资料显示，武汉华星光电技术有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目685次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可263个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员