国家知识产权局信息显示，一道新能源科技股份有限公司取得一项名为“改善poly硅均匀性的直通豁口硅烷补气管及LPCVD沉积炉管”的专利，授权公告号CN223852768U，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本实用新型公开一种改善poly硅均匀性的直通豁口硅烷补气管及LPCVD沉积炉管，涉及电池片制造技术领域，直通豁口硅烷补气管设置于LPCVD沉积炉管的炉中，所述直通豁口硅烷补气管进入LPCVD沉积炉管的一端开有沿长度方向设置的至少一段直通豁口。本实用新型提供的一种改善poly硅均匀性的直通豁口硅烷补气管用于LPCVD沉积时poly硅的均匀性改善，在现有低压化学气相沉积炉管中，通过加长一截包括直通豁口的硅烷补气管，长度延伸至舟托长度的中心位置，能够减少反应物损失，使反应物整体向片子表面沉积更加集中，从而达到改善炉中poly均匀性的目的。

天眼查资料显示，一道新能源科技股份有限公司，成立于2018年，位于衢州市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本52910.6152万人民币。通过天眼查大数据分析，一道新能源科技股份有限公司共对外投资了33家企业，参与招投标项目635次，财产线索方面有商标信息60条，专利信息1015条，此外企业还拥有行政许可18个。

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作者：情报员