国家知识产权局信息显示，渠梁电子有限公司申请一项名为“一种提高IO疏密排列电镀共平面性的方法”的专利，公开号CN121443109A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种提高IO疏密排列电镀共平面性的方法，包括以下步骤：提供芯片，芯片的表面具有IO密区和IO疏区；在芯片的IO疏区的范围内涂覆临时胶，在芯片的IO密区的范围内涂覆第一光刻胶，在临时胶背离芯片的一侧涂覆第二光刻胶；通过曝光、显影使得第一光刻胶具有多个第一开口槽，第二光刻胶具有多个第二开口槽；对芯片进行电镀，在第一开口槽内形成第一铜柱，在第二开口槽内形成第二铜柱，第二铜柱形成于临时胶上；去除第一光刻胶、第二光刻胶以及临时胶。本发明通过设置可剥离的临时胶，并在光刻胶开设均匀分布供铜柱生长的开口槽，在电镀过程中平衡IO密区与IO疏区的电流分布，提高铜柱电镀的共平面性。

天眼查资料显示，渠梁电子有限公司，成立于2017年，位于泉州市，是一家以从事有色金属冶炼和压延加工业为主的企业。企业注册资本92431.7万人民币。通过天眼查大数据分析，渠梁电子有限公司参与招投标项目32次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息35条，此外企业还拥有行政许可59个。

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作者：情报员