案例：华南某化合物半导体芯片厂含氟酸性废水处理
项目背景
华南某专注于GaAs、GaN等化合物半导体生产的芯片厂，因产品特殊性，废水中含有高浓度氟化物和特殊金属离子。原有处理设施无法有效去除这些污染物，导致多次环保超标，急需改造升级废水处理系统。
废水成分与来源
该厂酸性废水具有以下特点：
含氟量极高：主要来自GaAs晶片的HF清洗工序，氟离子浓度达800-1200mg/L
含特殊金属：砷(As)、镓(Ga)等离子浓度超标
水质波动大：不同生产批次废水pH值可在1.0-5.0间剧烈变化
废水主要来自三个渠道：
晶圆蚀刻废水：含HF、HNO3等，占总水量40%
切片研磨废水：含SiC磨料和金属离子，占30%
设备保养废水：成分复杂，占30%
处理工艺流程
针对高氟、高砷特性，设计采用"两级化学沉淀+特种吸附"工艺：
预处理系统
格栅井：去除大颗粒杂质
事故应急池：1000m³容量，防止水质突变
一级处理系统
pH调节池：投加NaOH，调节pH至3.0-3.
反应池1：投加氯化钙，生成CaF2沉淀
沉淀池1：去除大部分氟化物
二级处理系统
pH精细调节：控制pH至7.0-7.
反应池2：投加硫酸亚铁，共沉淀去除残余氟和砷
沉淀池2：斜管设计，提高沉降效率
特种处理系统
活性氧化铝吸附塔：深度除氟
铁基复合材料吸附柱：专项去除砷、镓等离子
精密过滤器：1μm过滤精度
污泥处理系统
污泥浓缩池：固体浓度提升至3%
高压隔膜压滤机：污泥含水率<55%
稳定化固化：添加水泥和螯合剂，确保危废达标
最终处理效果
经过半年调试优化，系统处理效果显著：
氟离子：从平均1000mg/L降至2mg/L以下
总砷：从15mg/L降至0.01mg/L
镓离子：从8mg/L降至0.05mg/L
pH值：稳定在6.5-7.5范围
项目投资2800万元，处理规模2000吨/日，运行成本较高约15元/吨，主要因特种吸附材料消耗较大。但完全解决了企业面临的环保压力，避免了高额罚款
热门跟贴