国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司取得一项名为“一种可提高控压精度的蝶阀及其薄膜沉积设备”的专利，授权公告号CN223868560U，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种可提高控压精度的蝶阀，其包括：驱动单元，连接于所述驱动单元的阀体，连接于所述驱动单元的驱动端的阀板，以及连接于所述阀板上的加热单元；其中，所述阀体上设有阀孔，所述阀板位于所述阀孔内，且所述阀板受控于所述驱动单元以所述阀孔的轴向旋转调节开度，所述加热单元用于对所述阀板进行预加热。本实用新型的可提高控压精度的蝶阀及其薄膜沉积设备，其采用加热单元对阀板进行预加热，并根据阀板预加热后的形变进行开度调节，不仅能够提高蝶阀的开度调节的准确性，还能够通过预热方式避免低温工艺气体的沉积导致的卡塞风险。

天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息461条，此外企业还拥有行政许可16个。

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作者：情报员