国家知识产权局信息显示,拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请一项名为“一种设置复合隔音板的设备机台”的专利,公开号CN121438782A,申请日期为2025年11月。
专利摘要显示,本发明提供了一种设备机台,包括排风系统和复合隔音板。该排风系统包括进气口、通风管路、风机及排风口。从进气口鼓入的气体在风机的作用下撞击通风管路发生共振,以形成低频噪声,流经进气口及排风口的气流形成高频噪声。该复合隔音板包括阻尼层、第一缓冲层及消音层。该阻尼层贴附于排风系统的进气口、通风管路、风机和/或排风口,用于减弱共振,以吸收低频噪声。该第一缓冲层由柔性材料制成,并位于阻尼层及消音层之间,用于阻止噪声能量在两者之间传递。该消音层贴附于第一缓冲层,用于吸收高频噪声。
天眼查资料显示,拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司,成立于2023年,位于沈阳市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析,拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司参与招投标项目26次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息465条,此外企业还拥有行政许可16个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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