国家知识产权局信息显示，浙江大学、浙江创芯集成电路有限公司申请一项名为“一种基于边级定位的光刻热点检测方法”的专利，公开号CN121432815A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明公开一种基于边级定位的光刻热点检测方法，首先将集成电路版图构建为一个图结构，其中每个节点对应集成电路版图中多边形的一条边，边对应节点之间的连接关系；引入边类型，所述边类型包括邻接边、图形边和空间边；提取边特征和节点特征，构建得到完整的图结构，输入至预先训练的机器学习模型中，输出每个节点的热点预测结果。本发明摒弃了将版图栅格化为图像或切分为矩形的方法，直接使用构成版图的最基本几何元素来构建图的节点，进而实现了高精度定位和非曼哈顿版图支持，为精确映射热点到具体问题边提供了可能。

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作者：情报员