国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“光刻设备、在所述光刻设备中使用的具有多个感测元件的均一性传感器、确定辐射束的性质的方法、以及确定用于光刻系统的光学元件的校准的方法”的专利，公开号CN121464401A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，本文中描述一种确定光刻系统内的辐射束的性质的方法。所述方法包括针对所述辐射束的在第一方向上具有不同位置的多个区段中的每个区段来测量多个强度。使用传感器的多个感测元件中的不同的一个感测元件来测量所述多个强度中的每个强度。所述多个强度中的每个强度对应于所述辐射束的在第二方向上具有不同位置的多个部分中的不同的一个部分。所述辐射束的所述多个部分对应于所述辐射束的整个区段。所述方法还包括针对所述辐射束的所述多个区段中的至少一个区段，使用所测量的多个强度中的至少一个强度来确定所述辐射束的性质。

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作者：情报员