国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司申请一项名为“光学模块和投射曝光系统”的专利，公开号CN121464399A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，本发明涉及一种具有光学元件（M3）的光学模块（30、40、50），其中光学元件（M3）具有光学有效表面（31）并且经由至少一个连接元件（33、41）连接到加强体（32）。该连接元件的特征在于，该连接元件（33、41）包含解耦区域（34、42.2、42.3），通过该解耦区域产生该加强体（32）与该光学元件（M3）平行于该光学有效表面（31）的机械解耦。在此过程中，加强体（32）的材料可以具有比光学元件（M3）的材料的弹性模量至少大两倍、优选大三倍、特别优选大四倍的弹性模量，和/或加强体（32）可以由陶瓷材料制成，特别是碳化硅。本发明还涉及一种用于半导体光刻的投射曝光系统（1，101），包括根据所述实施例之一的光学模块（30，40，50）。

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作者：情报员