国家知识产权局信息显示，桂林雷光科技有限公司申请一项名为“一种激光器芯片欧姆接触退火优化方法及相关设备”的专利，公开号CN121461082A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明公开一种激光器芯片欧姆接触退火优化方法及相关设备，方法包括：通过沉积在半导体表面形成金属电极和导电标记层；在退火升温阶段，对导电标记层施加电学激励并采集电学响应，以建立导电标记层所在位置的初始响应基准；在退火保温阶段，监测导电标记层的电学响应变化，并将实时响应与初始响应基准进行比较，以判定导电标记层所在位置的欧姆接触形成状态；根据欧姆接触形成状态的判定结果，调节退火工艺参数。本方案能够实现退火过程中对不同位置欧姆接触形成状态的原位监测和自适应调节，提高激光器芯片欧姆接触的均匀性和良率。

天眼查资料显示，桂林雷光科技有限公司，成立于2016年，位于桂林市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本4000万人民币。通过天眼查大数据分析，桂林雷光科技有限公司专利信息24条，此外企业还拥有行政许可30个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员