国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模、包括该沉积掩模的沉积设备和制造该沉积掩模的方法”的专利，公开号CN121451117A，申请日期为2025年6月。

专利摘要显示，公开了一种沉积掩模、包括该沉积掩模的沉积设备和制造该沉积掩模的方法。该沉积掩模包括：掩模框架，具有单元开口并且包括限定单元开口的肋区域；膜，包括均设置在单元开口上的掩模单元区域；以及反射图案，设置在单元开口的内表面上并且反射热辐射能量。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员