瑟克公司申请屏蔽层中的连续开口专利,实现电容模块中天线与电容电极之间的有效屏蔽
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国家知识产权局信息显示,瑟克公司申请一项名为“屏蔽层中的连续开口”的专利,公开号CN121460379A,申请日期为2025年7月。
专利摘要显示,一种电容模块可以包括:电容电极,位于第一基板上;屏蔽材料,设置在第二基板上,其中第二基板与第一基板对齐;天线,其中屏蔽材料位于天线和电容电极之间;以及连续开口,限定在屏蔽材料中。连续开口可以包括分支形状,该分支形状具有主干和从主干延伸出的多个分支;并且连续开口可以与天线重叠。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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