国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司申请一项名为“抽气装置及半导体器件的工艺腔室”的专利，公开号CN121451145A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明公开了一种抽气装置及一种半导体器件的工艺腔室。该抽气装置包括进气口、第一抽气口、至少一个第二抽气口和出气口。该进气口位于晶圆托盘的一侧，朝向位于晶圆托盘相对的另一侧的供气装置，用于抽取横向流经晶圆托盘的气体，其中，进气口的尺寸不小于晶圆托盘的直径。该第一抽气口对准进气口的一侧，并经由导流结构连通进气口。该至少一个第二抽气口对准进气口的另一侧，并连通导流结构。该出气口分别连通第一抽气口及至少一个第二抽气口，以同步从进气口的多侧抽气。

天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目37次，专利信息367条，此外企业还拥有行政许可40个。

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作者：情报员