国家知识产权局信息显示,爱思开海力士有限公司申请一项名为“半导体装置”的专利,公开号CN121487618A,申请日期为2025年1月。
专利摘要显示,本公开涉及半导体装置。一种半导体装置包括:基础芯片,其包括第一基础焊盘、第二基础焊盘和第三基础焊盘;以及核心芯片,其包括第一路径、第二路径以及第三路径,第一路径包括第一多个核心焊盘,第二路径包括第二多个核心焊盘,以及第三路径包括第三多个核心焊盘。第一基础焊盘电连接到第一多个核心焊盘中的一个。第二基础焊盘电连接到第二多个核心焊盘中的一个。第三基础焊盘电连接到第三多个核心焊盘中的一个。基础芯片和核心芯片被堆叠。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
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