近日，有机构公布了2025年全球前30大半导体设备企业。
这Top30中，中国大陆的企业上榜了5家，前20名中上榜了3家，前10名中上榜了1家。
这5家企业分别是北方华创，中微公司、上海微电子、盛美上海、华海清科，分别位列全球第五名、第13名、第20名、第23名、第24名。
这些企业主营的也不太一样，北方华创主营刻蚀机、CVD、清洗机等，而中微公司主营就是刻蚀机，上海微电了主营是光刻机。
很多人称，随着中国企业在半导体设备这一块持续发力，未来该美国担心了，因为再也打压不住了，中国芯片产业将崛起了。
当然，这个说法肯定是对的，但我觉得，美国最担心的，还是中国研发出EUV光刻机，只有EUV光刻机研发出来，全球芯片产业才会洗牌，如果不研发出EUV，那么形势还是很严峻的。
目前，全球所有的大规模的芯片制造，均是基于光刻工艺，其它的一些方式方法，都只是小规模的试验性的方式，比如NIL，EBL等等。
而光刻工艺，就离不开光刻机。从当前的情况来看，进入7nm之下，虽然说浸润式光刻机也行，但实际上还是需要EUV光刻机的。
浸润式只是理论上，还需要多重曝光，会导致良率大跌，同时成本大增，所以用浸润式来制造7nm芯片，还能勉强一下，但制造7nm之下，就非常困难了。
如果不能制造5nm及以下的芯片，那么在先进芯片这一块，就会受到影响，那么美国的先进芯片，在全球就依然是没有对手，那么美国就可以利用先进芯片来影响到全球的芯片格局。
估计很多人会说，成熟芯片占比更高，用更多数量的成熟芯片来堆叠之类的，也能够达到先进芯片的功能，但是如果在一些小体积的，要控制发热，功耗的地方，怎么多更多的成熟芯片来堆叠？
所以，制造出先进芯片，依然是影响全球芯片产业的格局的唯一办法，一旦制造不出来，那么美国持续打压就会持续有效，只有当我们能制造了，形势才会彻底扭转，而这一切就在于EUV光刻机。
当然，到现在全球Top30的半导体设备厂商，我们已经有了5家，进步很大，且上海微电子能够排在第20名，也是中国光刻机厂商，说明其实力越来越强，所以EUV光刻机，也是迟早的事情。
这个也确实是如此，但是大家都希望越快越好，毕竟光刻机这一块，我们还是落后太多了。
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