国家知识产权局信息显示，深圳市新凯来工业机器有限公司申请一项名为“一种堆叠结构的空腔的制备方法和半导体设备”的专利，公开号CN121487289A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本申请涉及半导体领域，公开了一种堆叠结构的空腔的制备方法和半导体设备，方法包括：准备待刻蚀堆叠结构，待刻蚀堆叠结构包括交替层叠的第一半导体层和第二半导体层，第一半导体层包括硅，第二半导体层包括锗化硅；刻蚀部分第二半导体层以形成待修饰空腔；向反应腔室中注入物质，使待修饰空腔内的第一半导体层和第二半导体层均与物质反应，以在待修饰空腔的内壁形成硅化物层；刻蚀去除硅化物层。本申请中在得到待修饰空腔后，通过注入物质使待修饰空腔内的第一半导体层和第二半导体层均与物质反应生成硅化物层，然后对硅化物层进行刻蚀实现对待修饰空腔形貌的修饰，使得空腔的形貌趋于方正。并且还能有效修复部分第一半导体层表面的缺陷。

天眼查资料显示，深圳市新凯来工业机器有限公司，成立于2022年，位于深圳市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本108140万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市新凯来工业机器有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目18次，财产线索方面有商标信息22条，专利信息212条，此外企业还拥有行政许可14个。

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作者：情报员