国家知识产权局信息显示,西默有限公司申请一项名为“辐射源的放电腔室中的电极”的专利,公开号CN121488368A,申请日期为2024年6月。
专利摘要显示,一种用在深紫外辐射源中的系统,用于管理在放电腔室中的两个电极的尖端之间的放电区中的气体的净化和补充,其中至少一个电极的尖端具有横向于电极长度的形状,该形状促进气流动经过放电区。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
国家知识产权局信息显示,西默有限公司申请一项名为“辐射源的放电腔室中的电极”的专利,公开号CN121488368A,申请日期为2024年6月。
专利摘要显示,一种用在深紫外辐射源中的系统,用于管理在放电腔室中的两个电极的尖端之间的放电区中的气体的净化和补充,其中至少一个电极的尖端具有横向于电极长度的形状,该形状促进气流动经过放电区。
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