国家知识产权局信息显示，华中科技大学;武汉国创科光电装备有限公司申请一项名为“一种基于微液滴生成的高频喷印方法及系统”的专利，公开号CN121469173A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明属于喷墨打印技术领域，具体涉及一种基于微液滴生成的高频喷印方法及系统，包括：向微喷嘴组件施加高压高频时变电信号，在喷嘴出口与接地基板间形成高频时变电场；调节电信号参数、供墨装置输出，使喷嘴出口处生成泰勒锥/射流，进而在泰勒锥/射流末端稳定断裂破碎生成均匀的微液滴；其中，喷嘴出口与移动基板表面之间的距离大于泰勒锥或射流在空气中稳定断裂破碎所需的临界距离；高压高频时变电信号的频率为泰勒锥或射流断裂成滴固有频率的整数倍；供墨装置的供墨速率满足：与高压高频时变电信号的参数相匹配，通过诱发泰勒锥或射流共振确保稳定断裂破碎。本发明提升电流体喷射频率，同时突破其特征频率限制。

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作者：情报员