国家知识产权局信息显示，细美事有限公司申请一项名为“衬底处理设备和衬底处理方法”的专利，公开号CN121506834A，申请日期为2025年5月。

专利摘要显示，提出了一种能够有效地去除在可以被升高的聚焦环的下表面上形成的异物的衬底处理设备和衬底处理方法。使用等离子体执行处理过程的该衬底处理设备包括：处理室，该处理室被配置为形成用于衬底的处理空间；卡盘板，该卡盘板被配置为支撑该衬底；聚焦环，该聚焦环设置在该卡盘板的上边缘上；提升销，该提升销被配置为提升该聚焦环；气体供应部分，该气体供应部分被配置为向该处理空间供应处理气体；高频电源，该高频电源被配置为提供高频功率以在该处理空间中生成等离子体；以及控制器，其中该控制器被设定为执行以下步骤：建立该处理室内部的气氛；以及对该衬底执行等离子体处理。

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作者：情报员