国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“对诸如曝光设备之类的机器进行合格评定的方法”的专利，公开号CN121511426A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，公开了确定代表性照射轮廓以用于执行对曝光设备的合格评定动作的、计算机实现的方法。方法包括：获得针对多个照射轮廓的像差灵敏度数据，所述像差灵敏度数据利用与所述多个照射轮廓中的每个相应不同的照射轮廓相关联的像差来描述曝光误差指标的灵敏度；根据所述多个照射轮廓对应的像差灵敏度数据的相似度，将所述多个照射轮廓分组为一个或多个组；以及针对所述组中的每个组确定相应的代表性照射轮廓。

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作者：情报员