国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“针对带电粒子装置的直接像差检索”的专利，公开号CN121511501A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，一种系统和方法用于诸如扫描电子显微镜等带电粒子束系统中的像差检测。所述方法使用检测器表面上的带电粒子到达事件的所述入射位置的空间信息来确定样品上的所述入射束的特性。通过辐照样品上平坦、开放的表面区，诸如束倾斜、散焦、球面像差、色差、慧差、衍射误差、像散、场曲率、失真和其他等束参数可能与可以被用于标识和校正束像差的所述最终空间分布具有可标识的关系。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员