国家知识产权局信息显示，普发真空技术股份公司申请一项名为“真空设备”的专利，公开号CN121520198A，申请日期为2025年5月。

专利摘要显示，一种真空设备，包括至少两个真空泵，每个真空泵各自具有至少一个润滑剂腔，该润滑剂腔是为用于润滑各自真空泵的至少一个部件的润滑剂而设置的。真空设备还包括一个润滑剂的中央入口以及一个润滑剂的中央出口，中央入口与各真空泵的润滑剂腔相连，而中央出口也与各真空泵的润滑剂腔相连。

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作者：情报员