国家知识产权局信息显示,新应材股份有限公司申请一项名为“微细图案形成用材料、感光性树脂组合物、图案处理组合物以及微细图案的形成方法”的专利,公开号CN121522956A,申请日期为2024年8月。
专利摘要显示,本发明提供一种微细图案形成用材料、感光性树脂组合物、图案处理组合物以及微细图案的形成方法。微细图案形成用材料包括第一层以及第二层。第一层包括感光性树脂组合物(I)。感光性树脂组合物(I)包括碱可溶性酚醛树脂(A)、感光剂(B)、含羟基的添加剂(C)以及有机溶剂(D)。第二层包括图案处理组合物(II)。图案处理组合物(II)包括交联剂(M)、水溶性树脂(N)、热酸产生剂(P)以及水(Q)。含羟基的添加剂(C)包括由下述式(C‑1)表示的化合物。交联剂(M)包括三聚氰胺类交联剂。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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