国家知识产权局信息显示，西安唐晶量子科技有限公司申请一项名为“一种面向VCSEL外延片生产的厚度均匀性检测方法”的专利，公开号CN121529294A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本发明涉及厚度检测技术领域，具体涉及一种面向VCSEL外延片生产的厚度均匀性检测方法。该方法获取VCSEL外延片检测点的参考反射光谱图；根据参考层与谐振腔层的分布特征获取干扰程度；基于VCSEL外延片每层的预设厚度和折射率色散关系获取理论反射光谱图；根据理论反射光谱图与参考反射光谱图中的反射强度差异和干扰程度，获取偏差程度；调整预设厚度，获取每次调整后对应的偏差程度，直至偏差程度满足停止条件，将最终调整中谐振腔层对应的预设厚度，作为检测点的参考厚度，对VCSEL外延片生产的厚度均匀性进行检测。本发明通过准确获取每个检测点的参考厚度，有效提高了对VCSEL外延片厚度均匀性分析的准确性。

天眼查资料显示，西安唐晶量子科技有限公司，成立于2017年，位于西安市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本4108.612516万人民币。通过天眼查大数据分析，西安唐晶量子科技有限公司参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息21条，此外企业还拥有行政许可17个。

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作者：情报员