国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“量测设备”的专利，公开号CN121532705A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，提供了一种用于光刻系统的量测设备，该量测设备包括：多个可独立移动的指状件，其被配置为控制图案形成装置的被照射区域的形状，其中可独立移动的指状件中的一个或多个包括一个或多个反射表面；和一个或多个辐射传感器；其中一个或多个可独立移动的指状件的一个或多个反射表面被配置为朝向一个或多个辐射传感器反射辐射。

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作者：情报员