国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“用于隔离金属互联导线的空气间隙形成方法”的专利，公开号CN121548293A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明公开了一种用于隔离金属互联导线的空气间隙形成方法，利用晶圆键合工艺，通过将一片在金属互联层周围的电介质层中已预先刻蚀出沟槽的晶圆与另一形成有电介质层的晶圆合二为一，原本开口的沟槽即被另一晶圆的电介质层封闭，从而形成完整的空气间隙隔离结构，降低了对沟槽刻蚀工艺的要求，无需后续化学气相沉积工艺夹断即可密封沟槽形成空气间隙，并且能最大限度提高空气间隙的空间尺寸、均匀性和完整性。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2095次，专利信息2708条，此外企业还拥有行政许可397个。

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作者：情报员