朱士尧那句话火了，不是因为他骂谁，而是很多人听岔了。2024年9月在上海一个普通访谈里，他说“美国造不出，中国永远不可能”，结果被转发成“中国光刻机没希望”。其实他后面紧跟着解释：ASML自己都做不到100%国产，靠的是一千多家全球供应商。这话不是泄气，是说清楚一件事——光刻机不是拧几个螺丝就能造出来的机器，它是一张网，一张扯动全世界精密制造的网。
这玩意重180吨，零件超过十万件。镜头要平到什么程度？北京到上海的距离，误差不能超过一毫米。蔡司的镜片、美国的光源、日本的胶、瑞士的真空泵……少一样都不行。当年美国搞EUV项目，拉上英特尔、摩托罗拉一起干，十年砸了上亿美金，最后还是靠和欧洲合作才慢慢跑通。不是技术不行，是信任链没法一夜建成。
国内这边没硬刚整机，而是分两步走。DUV这条线，是实打实跑出来了。2024年上海微电子90纳米光刻机量产，2025年中芯国际开始用国产28纳米浸没式设备做车规芯片。光学系统、工件台、控制软件，国产率超八成，良率到90%以上。去年全国买的DUV设备里，三分之一是国产的，用在电源管理、传感器、LED驱动这些不靠最尖端制程但量大的地方。
EUV没喊口号，也没说今年交付明年商用。哈工大做的13.5纳米光源，2025年通过了能量稳定性测试，体积比ASML的小四成；长春光机所的反射镜镀膜，2026年初反射率干到72%；福晶科技的激光晶体，已经进了国际供应链名单。光刻胶也在往前赶，28纳米节点良率过了90%，不是实验室数据，是产线实测。国家专项资金1500亿美元，六成多投向材料纯度、算法、微纳加工这些“看不见”的环节。
有人总以为“自主”就是全部自己造。其实不是。就像汽车里用博世的ESP，但整车标准、装机流程、故障响应全由自己定，这就叫可控。上海微电子设备现在占国内先进封装光刻机市场八成以上，Chiplet需要的高精度对准，国产设备已经扛得起来。2026年，中国第一次牵头写光刻胶纯度检测的ISO标准方法，不是抄别人，是把国产产线的经验变成规则。
ASML的High-NA EUV推迟了，原定2025年交货，现在看要拖到2026下半年。荷兰出口管制加码，他们在中国市场的份额，预计今年会掉到20%。不是客户不想买，是买不到；买不到，就只能转头用国产DUV+先进封装组合方案。全球83%的功率半导体，本来也不需要5纳米以下工艺。
朱士尧那句话，真正在提醒的，是我们常把“能造”等同于“能稳造”。造出一台能亮灯的样机容易，造出每天24小时不停、连续跑三个月不出错、换人操作也不翻车的设备，才最难。这背后是材料批次的一致性，是软件和硬件咬合的精度，是一百个工程师对同一个误差值的共同理解。
中芯国际的28纳米产线用上了国产设备，不是宣传图，是实打实流片。上海微电子的厂房里，新一批双工件台正在做寿命测试，标称20万次往复，现在跑了17万次，抖动值还在允许范围内。国产光刻胶供应商最近换了三条产线，不是为了扩产，是为了把金属杂质从0.1ppb再压一压。
这些事没上热搜，新闻里也不常提。但它们就发生在你刷短视频的那几分钟里，发生在南方一座工业园的无尘车间里，发生在东北实验室凌晨三点的示波器屏幕上。
光刻机这事，从来不是赌一把赢不赢，而是每天多拧紧一颗螺丝，多校准一次参数，多记下一条异常曲线。
它不靠奇迹。靠的是没停过的流水线，和没关过的电脑。
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