国家知识产权局信息显示，上海显耀显示科技股份有限公司申请一项名为“半导体结构及其形成方法”的专利，公开号CN121568485A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，一种半导体结构及其形成方法，所述方法包括：形成基底，所述基底具有发光台面区域；在所述发光台面区域的基底上形成呈阵列分布的发光台面；形成具有第一导电柱的第一键合层，所述第一导电柱位于所述发光台面的顶部表面上；形成驱动背板，所述驱动背板具有第二键合层，所述第二键合层内具有与所述第一导电柱对应的第二导电柱；对所述第一键合层和第二键合层进行可拆卸地键合连接，以使得所述第一导电柱的至少一部分与所述第二导电柱的部分或全部一一对应的电连接。本发明可以降低工艺成本，并提高驱动背板对发光台面器件的精准驱动。

天眼查资料显示，上海显耀显示科技股份有限公司，成立于2015年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6644.7976万人民币。通过天眼查大数据分析，上海显耀显示科技股份有限公司共对外投资了2家企业，财产线索方面有商标信息250条，专利信息372条，此外企业还拥有行政许可14个。

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作者：情报员