国家知识产权局信息显示，超晶科技（黑龙江）有限公司取得一项名为“一种采用微波等离子沉积的偏置电压样品台”的专利，授权公告号CN223936604U，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种采用微波等离子沉积的偏置电压样品台，属于金刚石制备技术领域，该种采用微波等离子沉积的偏置电压样品台，包括微波等离子体化学气相沉积设备反应腔室、水冷沉积台、偏压电极升降台、石英圆筒和钨制环形偏压电极，所述微波等离子体化学气相沉积设备反应腔室底部设置有偏压样品台，所述微波等离子体化学气相沉积设备反应腔室顶部设置有石英微波窗口。本实用新型通过集成了直接向等离子体加偏置电压的偏压电极和水冷沉积台，并且二者的高低位置均可独立调节，可以有利于找到电极、样品台和等离子体三者最合适的实时相对位置，从而实现稳定、均匀、高效的偏压增强形核工艺过程，利于金刚石在沉积衬底上均匀地形核和生长。

天眼查资料显示，超晶科技（黑龙江）有限公司，成立于2024年，位于哈尔滨市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本50万人民币。通过天眼查大数据分析，超晶科技（黑龙江）有限公司专利信息1条。

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作者：情报员