目前大规模的芯片制造下，7nm以下芯片，必须使用EUV光刻机。

而EUV光刻机，全球只有ASML一家能够制造，所以像台积电、三星、英特尔等等厂商，如果想制造7nm以下芯片，必须找ASML去购买。

不过，虽然EUV这么重要，但其实也有一个大问题，那就是功率太高，能量转换效率太低。

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一台EUV光刻机，需要1250KW的电力输入，但转换后，其光源功率大约为600W，最后输出功率只有250W，所以生产的芯片大约每小时，只能处理220 片左右。

所以EUV光刻机是电老虎，ASML一直在努力的想要提高转换效率，提高光源功率，提高最终的输出功率，以提高芯片生产的速度。

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而近日，ASML表示称，它们找到了办法，能够将EUV 光源功率从 600 瓦提升至 1000 瓦，而一旦光源的功率提升了，那么进行光刻时，效率就会提升。

ASML称，到时候晶圆处理速度，能够从现在的220片每小时，提高50%，达到330片每小时，这样可以让晶圆厂采用EUV光刻机时，制造更多的芯片出来。

ASML称，这不是噱头，这是实实在在的技术，到2030年时，他们能稳定的让EUV光刻机每小时处理的晶圆产能，提升50%。

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说真的，如果EUV真的能够稳定的将光源提升至1000W，然后产能提升50%，对于整个芯片行业而言，将是巨大的利好。

因为产能高了，生产成本就降低了，那么最终生产出来的芯片价格就会下滑，所有需要使用芯片的行业，都会因此而受益，比如手机、PC、AI等等。

当然，目前ASML只是设了目标，表示自己有了这个能力，但最终还要到2030年才全面实现，中间还有太多的变数，万一到时候其它技术颠覆了EUV，也不是不可能的，所以这一切就让我们拭目以待吧。