你知道造一颗7nm以下的芯片，最费电的环节是什么吗？

答案是光刻。更准确地说，是EUV光刻机。

这东西有多夸张？一台EUV光刻机，插上电就要吃掉1250千瓦的功率。什么概念？差不多够一个小区的居民用电了。可这么大的电老虎，干起活来效率却不咋地——输进去1250千瓦，最后转化成光源功率只剩600瓦，真正用到晶圆上的，才250瓦。一个小时下来，只能处理220片左右的晶圆。

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说白了，大部分电都浪费了。

这问题ASML自己也知道，一直在想办法。最近他们放出消息：找到新路子，能把光源功率从600瓦提到1000瓦。别小看这400瓦的提升，换算到产能上，就是每小时从220片涨到330片，直接多出50%。

你可能会问，50%很多吗？对芯片制造来说，这相当于同样的时间、同样的机器，多产出五成的芯片。晶圆厂的成本摊薄了，芯片的价格自然就有下降空间。

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ASML当然也没有过多的去吹牛，没说这是马上能实现的事儿。按他们的规划，这套技术要到2030年才能稳定落地。

所以，这中间还有4年，所以变数还真不少，这4年间，说不定到时候冒出来个新技术，直接把EUV的路给断了——科技圈这种事又不是没发生过。

不过话说回来，如果真能成，受益的可不只是台积电、三星这些买光刻机的。手机、电脑、AI芯片，哪个不用晶圆？成本降下来，终端产品便宜了，最后掏钱的是咱们消费者，所以消费者肯定更受益。

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从600W到1000W,看起变化不大，但反应在芯片上，区别就可大了，50%的产能提升，相当于成本下降了三分之一，SML这一步，算是给未来几年埋了个悬念：2030年，咱们能用上更便宜的芯片吗？