国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司取得一项名为“一种化学气相沉积设备的反应腔室”的专利，授权公告号CN223936596U，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，本实用新型提供一种化学气相沉积设备的反应腔室，包括腔室主体，腔室主体包括相对设置的第一壳体和第二壳体；第二壳体与第一壳体配合形成反应腔；第一壳体与底座固定连接；第二壳体通过导向机构与第一壳体活动连接，并在升降装置的带动下靠近或远离第一壳体，进而实现反应腔的闭合或打开；第一壳体的侧壁上设置有端口，端口用于与外界晶圆传输系统连接。本实用新型通过将现有技术中的三段式腔室主体结构改进设计为两段式结构，有效减少腔室主体所需的密封机构数量，进而有效降低了反应腔室的气体泄漏风险；通过升降装置带动第二壳体打开或关闭反应腔，有效节省了人力，提高日常维护过程的效率，同时也避免了人工拆卸和安装过程中的意外伤害。

天眼查资料显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司，成立于2018年，位于青岛市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。通过天眼查大数据分析，芯恩（青岛）集成电路有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目192次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息976条，此外企业还拥有行政许可56个。

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作者：情报员