国家知识产权局信息显示，嘉际环控（西安）科技有限公司申请一项名为“一种基于PECVD的基底预清洁方法”的专利，公开号CN121555990A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本申请公开了一种基于PECVD的基底预清洁方法，属于半导体薄膜沉积技术领域。该方法主要包括：将待沉积基底放置于沉积腔体内的加热器上，并将闭合的沉积腔体内的真空度调整至第一预定值；以预定大小的流量向沉积腔体内通入氩气，并将沉积腔体内的真空度调整至第二预定值；利用高频射频电源在沉积腔体内形成射频电场，并利用射频电场电离氩气形成氩离子；利用氩离子轰击待沉积基底的表面，直至去除完待沉积基底的表面杂质，并在去除完杂质后将沉积腔体内的真空度调回至第一预定值。本申请利用氩气等离子体的物理轰击特性实现待沉积基底的表面污染物的高效去除，同时通过设备各系统的协同控制保障预处理与沉积工艺的无缝衔接。

天眼查资料显示，嘉际环控（西安）科技有限公司，成立于2021年，位于西安市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本1098.222061万人民币。通过天眼查大数据分析，嘉际环控（西安）科技有限公司共对外投资了3家企业，财产线索方面有商标信息4条，专利信息39条，此外企业还拥有行政许可5个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员