国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“进风量控制系统、方法和气体供应设备”的专利，公开号CN121560084A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本申请提供了一种进风量控制系统、进风量控制方法和气体供应设备，涉及半导体器件的加工领域。进风量控制系统包括：温度传感器、控制器、电机，以及位于气体供应设备的进风口的进风量调节结构，其中：温度传感器，用于采集气体供应设备中汽化器的温度，并将采集的温度传输至控制器；控制器，用于确定温度与目标温度的差值，根据差值向电机输出控制信号；电机，用于根据控制信号驱动进风量调节结构运动，改变进风口的进风面积。可以通过汽化器的实测温度与目标温度的差值动态调整进风口的进风面积，有利于降低气体供应设备内部对流换热对汽化器温度的影响，保证汽化器的汽化性能。

天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息488条，此外企业还拥有行政许可16个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员