国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种过滤器及半导体器件的加工设备”的专利，公开号CN121570875A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明提供了一种过滤器及一种半导体加工设备。该过滤器包括本体和石墨烯滤芯。该本体设有待过滤流体的入口和出口。该石墨烯滤芯设于本体内，并位于入口和出口之间。该石墨烯滤芯的一端连接电源的第一电极，而其另一端连接电源的第二电极，以在电源的驱动下发热。

天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息488条，此外企业还拥有行政许可16个。

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作者：情报员