国家知识产权局信息显示,深圳市美思先端电子有限公司申请一项名为“一种红外吸收复合膜层、红外探测器及红外光源”的专利,公开号CN121578425A,申请日期为2026年1月。

专利摘要显示,本发明公开了一种红外吸收复合膜层、红外探测器及红外光源,复合膜层包括依次层叠设置的钝化层、第二介质层、第二金属层、第一介质层及第一金属层;第一金属层的厚度为50~300nm;第一介质层的厚度为200~1200nm,第二金属层的厚度为5~100nm,第二金属层的材质为镍铬合金或镍;且两个金属层的材质不同;第二介质层的厚度为100~1000nm;两个介质层组合为对称性优化的谐振腔;钝化层的厚度为100~500nm。上述复合膜层使用镍铬合金或镍作为关键损耗层,结合双介质层及第一金属层,利用第二金属层优异的抗氧化性和热稳定性,解决了目前辐射材料层的氧化退化和稳定性问题,同时兼容标准工艺且具有高吸收率。

天眼查资料显示,深圳市美思先端电子有限公司,成立于2015年,位于深圳市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1308.014354万人民币。通过天眼查大数据分析,深圳市美思先端电子有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目9次,财产线索方面有商标信息41条,专利信息138条,此外企业还拥有行政许可28个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

本文源自:市场资讯

作者:情报员