国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“盘柄吹扫系统、盘柄吹扫气管的监测方法和半导体设备”的专利，公开号CN121586423A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明公开了一种盘柄吹扫系统、半导体设备和盘柄吹扫气管的监测方法。该盘柄吹扫系统包括：气源，提供吹扫气体；流量计，连接所述气源；限流器，其输入端经由气管连接所述流量计的出口，而其输出端位于加热盘盘柄的入口处，以将所述流量计的出口压力升高至目标出口压力P2；以及控制器，被配置为：基于所述流量计的进口压力P1与所述目标出口压力P2的压差值。

天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息494条，此外企业还拥有行政许可16个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员