国家知识产权局信息显示，亚德诺半导体国际无限责任公司申请一项名为“用于电气过载检测及保护的火花间隙结构”的专利，公开号CN121586687A，申请日期为2024年5月。

专利摘要显示，公开了包括用于电气过载（EOS）监测或保护的火花间隙结构的装置以及相关联方法。在一个方面中，垂直火花间隙设备包括具有水平主表面的基板、第一导电层及第二导电层，导电层中的每一者在基板之上并且基本上平行于水平主表面延伸，同时在与水平主表面交叉的垂直方向上分开。第一导电层及第二导电层中的一者电连接至第一电压节点，并且第一导电层及第二导电层中的另一者电连接至第二电压节点。第一导电层及第二导电层用作一个或多个电弧形成电极对并且具有重叠部分，该重叠部分经配置以回应于在第一电压节点与第二电压节点之间接收的EOS电压信号而产生大致在垂直方向上延伸的一个或多个电弧放电。

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作者：情报员