国家知识产权局信息显示,安徽海默生电子有限公司申请一项名为“抗氧化铜基合金箔带及其表面处理方法”的专利,公开号CN121593155A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本发明公开了抗氧化铜基合金箔带,包括所述箔带的表面具有复合防护膜层;所述复合防护膜层由内至外包括等离子体电解氧化形成的过渡底层和电沉积形成的纳米晶锡铟合金封孔表层;所述复合防护膜层的总厚度为15‑30μm。本发明首创的“等离子体电解氧化底层+纳米锡铟合金表层”复合结构,从物理隔绝、化学钝化及电化学保护等多重机制协同作用,使箔带获得卓越的抗氧化与耐腐蚀能力。与此同时,导电功能主要由表层的高导电纳米金属层承担,底层被设计为极薄且通过元素掺杂优化了导电性,从而使得复合膜层对基体本征导电性能的影响降至极低水平,成功解决了传统表面处理技术中防护性能与导电性能相互制约的核心矛盾。
天眼查资料显示,安徽海默生电子有限公司,成立于2021年,位于宣城市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析,安徽海默生电子有限公司参与招投标项目5次,专利信息1条,此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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