国家知识产权局信息显示,厦门高光半导体材料有限公司申请一项名为“掩膜板框架及掩膜板组件”的专利,公开号CN121620100A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本申请提供一种掩膜板框架及掩膜板组件。其中的掩膜板框架包括:框体,框体中部具有上下贯通的窗口,围绕窗口四周具有边框,边框上侧具有用于连接掩膜板的结合面;以及至少一个支撑部件,支撑部件包括从边框内侧向窗口内延伸的伸出部、设置于伸出部一端的连接部和设置于伸出部另一端的支撑主体部,连接部连接于边框,支撑主体部设置于伸出部宽度方向上的一侧;支撑主体部具有不高于结合面的支撑平面,且支撑部件整体不高于支撑平面。本申请能够改善带刘海掩模板张网后的平坦度,既能减少掩膜板划伤基板现象的发生,又能使刘海部充分发挥遮挡覆膜材料的作用。
天眼查资料显示,厦门高光半导体材料有限公司,成立于2021年,位于厦门市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析,厦门高光半导体材料有限公司参与招投标项目12次,专利信息29条,此外企业还拥有行政许可20个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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