国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模、制造沉积掩模的方法以及电子装置”的专利，公开号CN121620088A，申请日期为2025年8月。

专利摘要显示，本公开涉及沉积掩模、制造沉积掩模的方法以及电子装置。沉积掩模包括：掩模框架，具有单元开口；以及隔膜，设置在掩模框架上，并且隔膜具有连接到单元开口的多个像素开口。隔膜包括限定像素开口的肋区。与隔膜由不同的材料制成的至少一个异质材料图案设置在肋区上，或者至少一个凹槽形成在肋区中。

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作者：情报员